वाइप्ड फिल्म आसवन उपकरण
2) मशीन को बिना रोके निरंतर उत्पादन।
3) विभेदित निर्वात विभिन्न परिचालन स्थितियों को पूरा करता है।
4) उच्च तापमान और संक्षारण प्रतिरोधी स्टेनलेस स्टील सामग्री।
5) प्रक्रिया आवश्यकताओं के अनुसार अनुकूलन का समर्थन करें।
6) विद्युत उपकरण UL, ATEX, IECEx, और 3C प्रमाणपत्रों को पूरा करते हैं।
7) 24 घंटे ऑनलाइन तकनीकी सहायता के साथ 1 वर्ष की वारंटी।
8) फैक्टरी सीधे बिक्री से आपको लागत और समय बचाने में मदद मिलती है।
- उत्पाद विवरण*
वाइप्ड फिल्म आसवन उपकरण विवरण
वेल वन ड्यूल स्टेज वाइप्ड फिल्म डिस्टिलेशन इक्विपमेंट में एक प्राथमिक थिन फिल्म वाष्पीकरण उपकरण और एक द्वितीयक मॉलिक्यूलर डिस्टिलेशन उपकरण शामिल हैं। यह औद्योगिक उत्पादन में सबसे अधिक उपयोग की जाने वाली बहु-चरण श्रृंखला कनेक्शन विधि है। थिन फिल्म वाष्पीकरण पदार्थों से विलायक और नमी जैसे कम क्वथनांक वाले घटकों को हटाने का काम करता है, जबकि मॉलिक्यूलर डिस्टिलेशन आवश्यक उच्च क्वथनांक वाले उत्पादों को अलग करने का काम करता है। वाष्पीकरण क्षेत्र 0.1 वर्ग मीटर से 35 वर्ग मीटर तक होता है और तापन तापमान 350 डिग्री सेल्सियस से कम होता है। उपयोग स्थल की सुरक्षा आवश्यकताओं को पूरा करने वाले विस्फोटरोधी विद्युत उपकरणों का चयन किया जा सकता है।

वर्कफ़्लो सिद्धांत
थिन फिल्म इवेपोरेटर एक नए प्रकार का उच्च-दक्षता वाला इवेपोरेटर है जो मिश्रण में प्रत्येक घटक के क्वथनांक अंतर के आधार पर ऊष्मा विनिमय के लिए घूर्णनशील स्क्रैपर के माध्यम से एक फिल्म बनाता है, और निर्वात स्थितियों में तापन सतह के माध्यम से ऊष्मा को तेजी से अलग करता है। सामग्री को तापन क्षेत्र के ऊपर से शॉर्ट पाथ वाइप्ड फिल्म डिस्टिलेशन इवेपोरेटर में डाला जाता है; सामग्री को एक तरल वितरक के माध्यम से इवेपोरेटर की तापन सतह पर वितरित किया जाता है, और फिर घूर्णनशील स्क्रैपर प्रणाली सामग्री को तापन सतह पर लगातार और समान रूप से वितरित करती है, इसे सर्पिल आकार में नीचे की ओर धकेलती है। इस प्रक्रिया के दौरान, हल्के घटक वाष्पीकृत होकर एक भाप प्रवाह बनाते हैं जो ऊपर उठता है, वाष्प-तरल विभाजक से गुजरता है, और फिर संघनन और संग्रहण के लिए एक बाहरी कंडेंसर में स्थानांतरित हो जाता है; पुनर्गठित घटक इवेपोरेटर के निचले भाग से बाहर निकल जाता है। वाइप्ड फिल्म डिस्टिलेशन उपकरण प्रणाली के पहले चरण में उपयोग किया जाने वाला यह उपकरण कच्चे माल से विलायक और नमी जैसे कम क्वथनांक वाले घटकों को हटा सकता है। इस तथ्य के कारण कि संघनन इकाई बाहरी है और इसमें गैस-तरल विभाजक है, यह हटाए गए निम्न क्वथनांक घटकों में मौजूद उच्च क्वथनांक घटकों की मात्रा को कम कर सकता है, जिससे यह उन सामग्रियों के लिए उपयुक्त हो जाता है जिनमें बड़ी मात्रा में (5% से अधिक) निम्न क्वथनांक घटक होते हैं।
निम्न क्वथनांक घटकों को हटाने के बाद, पदार्थ आणविक आसवन उपकरण में प्रवेश करता है। निम्न क्वथनांक घटकों (जो 500PPm से कम हो सकते हैं) के कारण, आणविक आसवन प्रणाली का प्रचालन निर्वात 0.1Pa से कम हो सकता है, जिससे निम्न क्वथनांक घटकों की अव्यवस्थित आणविक गति कम हो जाती है और आणविक आसवन खंड से पृथक उत्पादों की शुद्धता में प्रभावी रूप से सुधार होता है।

उत्पाद पैरामीटर
आदर्श | सामूहिक नरसंहार के हथियारों-50-2 |
फीडिंग टैंक | 50 लीटर जैकेटेड टैंक, ऊपर 2 दृष्टि ग्लास, नीचे इंसुलेटेड बॉल वाल्व |
फ़ीड गियर पंप | 5L~25L/H, उच्च परिशुद्धता गियर पंप, 200W परिवर्तनीय आवृत्ति गति विनियमन |
बाष्पित्र क्षेत्र | 0.5㎡ वाष्पीकरण क्षेत्र |
आंतरिक शीतलन क्षेत्र | 1.2㎡ इंटर कूलर क्षेत्र |
बाष्पित्र व्यास | 260 मिमी आंतरिक व्यास |
सीलिंग विधि | चुंबकीय सीलिंग |
स्क्रैपर फॉर्म | वाइपर या रोलर |
डिस्चार्ज गियर पंप (अवशेष) | 5L~25L/H, उच्च परिशुद्धता गियर पंप, 200W परिवर्तनीय आवृत्ति गति विनियमन |
डिस्चार्ज गियर पंप (डिस्टिलेट) | 5L~25L/H, उच्च परिशुद्धता गियर पंप, 200W परिवर्तनीय आवृत्ति गति विनियमन |
सभी सामग्री पाइपलाइनों | जैकेटेड इन्सुलेशन |
सामग्री | SS316L |
हीटर (मुख्य बाष्पित्र) | RT-300℃/हीटर पावर 15kw/परिसंचरण 50L/मिनट |
हीटर (इन्सुलेशन सामग्री) | RT-200℃/हीटर पावर 10kw/परिसंचरण 50L/मिनट |
हीटर और चिलर (इंटर कंडेनसर) | -20℃-200℃/हीटर पावर 6kw/कूलर पावर 11kw |
चिलर (बाहरी कंडेनसर) | -80℃-RT/-40℃ पावर 4.1kw/-80℃ पावर 1.2kw |
वैक्यूम पंप VP01+VP02 | वेन वैक्यूम पंप: TRP-90(30L/S)/टर्बो पंप: TYFB-1200(1200L/S) |
उत्पाद अनुप्रयोग
कार्बनिक संश्लेषण के क्षेत्र में: A+B=C+A, A को एक पतली परत वाष्पीकरण उपकरण द्वारा हटाया जाता है, और C को एक आणविक आसवन उपकरण द्वारा आसुत किया जाता है। अवशिष्ट द्रव C+उच्च क्वथनांक बहुलक, वर्णक, धातु आयन और अन्य अशुद्ध पदार्थ हैं; A+B+C (विलायक, अभिक्रिया में शामिल नहीं)=D, C को एक पतली परत वाष्पीकरण उपकरण द्वारा हटाया जाता है, और D को एक आणविक आसवन उपकरण द्वारा आसुत किया जाता है। अवशिष्ट D+उच्च क्वथनांक बहुलक, वर्णक, धातु आयन और अन्य अशुद्ध पदार्थ हैं।
पादप निष्कर्षण के क्षेत्र में: पौधों के फूलों, पत्तियों, जड़ों और तनों से इथेनॉल या अन्य विलायकों का उपयोग करके निकाले गए अर्क को रिएक्टर या फॉलिंग फिल्म उपकरण में सांद्रित किया जाता है, और फिर भी विलायक अवशेष (10% से कम) शेष रह जाता है। अवशिष्ट विलायक को एक पतली फिल्म वाष्पीकरण उपकरण द्वारा हटा दिया जाता है, और प्रभावी पादप अर्क घटकों को आणविक आसवन उपकरण द्वारा आसवित किया जाता है । यह अवशेष पौधे में मौजूद मोमी घटक होता है।
क्रिस्टल शुद्धिकृत पदार्थों का शोधन: कार्बनिक विलायकों का उपयोग करके पुनःक्रिस्टलीकरण द्वारा फ़िल्टर की गई सामग्रियों में कार्बनिक विलायक होते हैं। अवशिष्ट कार्बनिक विलायकों को एक पतली फिल्म वाष्पीकरण उपकरण द्वारा हटा दिया जाता है, और क्रिस्टलीकरण के बाद उच्च शुद्धता वाले रसायनों को एक आणविक आसवन उपकरण द्वारा आसुत किया जाता है ताकि रंगहीनता और धातु निष्कासन प्राप्त किया जा सके।

उत्पाद विवरण
1. सामग्री पूर्ण इन्सुलेशन के साथ पाइपलाइन के माध्यम से बहती है;
2. आने वाली और जाने वाली सामग्री के लिए गियर पंप से संपर्क करें;
3. पतली फिल्म वाष्पीकरण उपकरण और आणविक आसवन उपकरण के बीच एक अलगाव वाल्व होता है, और प्रत्येक चरण के बीच स्वतंत्र वैक्यूम बनाए रखा जाता है;
4. विद्युत उपकरण विस्फोट-रोधी आवश्यकताओं को पूरा करते हैं और उन्हें दहनशील सामग्रियों वाले वातावरण में रखा जा सकता है;
5. पाइपलाइन सामग्री की प्रवाह स्थिति का निरीक्षण करने के लिए एक अवलोकन खिड़की से सुसज्जित है;
6. पतली फिल्म वाष्पीकरण उपकरण और आणविक आसवन उपकरण सुविधाजनक परिवहन के लिए स्वतंत्र मॉड्यूलरिटी के साथ डिज़ाइन किए गए हैं।

हमारा कारखाना
वेल वन की मुख्य तकनीकी टीम में रासायनिक संश्लेषण, रासायनिक अभियांत्रिकी और प्रक्रिया, रासायनिक मशीनरी आदि के पेशेवर इंजीनियर शामिल हैं। रासायनिक संश्लेषण, जैव अभियांत्रिकी प्रौद्योगिकी और यांत्रिक विनिर्माण प्रौद्योगिकी के बीच घनिष्ठ सहयोग नुसात द्वारा उत्पादित रासायनिक और जैव अभियांत्रिकी उपकरणों को व्यावहारिक, अनुकूल और प्रगतिशील बनाता है। 17 वर्षों के प्रयासों के बाद, हम उपयोगकर्ताओं को प्रायोगिक वाइप्ड फिल्म डिस्टिलेशन उपकरण , पायलट स्तर के आणविक आसवन उपकरण, औद्योगिक स्तर के थिन फिल्म डिस्टिलेशन सिस्टम और बहु-स्तरीय निरंतर उपयोग प्रणालियों जैसे उत्पादों की एक श्रृंखला प्रदान करने पर ध्यान केंद्रित करते हैं। हमारे उपयोगकर्ताओं की संख्या 1000 से अधिक हो गई है, जो दस से अधिक देशों में फैले हुए हैं।
1.प्रदर्शनी स्थल:

2. अनुसंधान एवं विकास टीम:

3.सीएनसी मशीनिंग केंद्र:

4.प्रसंस्करण मशीन:

5.असेंबली प्रक्रिया और तैयार उत्पाद:

6.OEM&ODM अनुकूलन मामला:

7. सतह खत्म और वैक्यूम डिग्री:

उत्पाद योग्यता
1. आईएसओ गुणवत्ता प्रबंधन प्रणाली प्रमाणन।
2. प्रयोगशालाएँ जो यू.एल. प्रमाणीकरण को पूरा करती हैं।
3. 30 से अधिक उत्पाद पेटेंट।
4. यूएल प्रमाणित उत्पाद.

पैकेज
1. अंतरराष्ट्रीय निर्यात लकड़ी के बॉक्स पैकेजिंग (गैर धूमन) के साथ अनुपालन।
2. माल समुद्र द्वारा भेजा जा सकता है, हवा से, छोटे माल या स्पेयर पार्ट्स एक्सप्रेस द्वारा भेज दिया जाएगा।
3. हम डिलीवर्ड ड्यूटी पेड प्रदान कर सकते हैं।
4. हम आपका समय और प्रयास बचाने के लिए डोर-टू-डोर डिलीवरी प्रदान कर सकते हैं, और हम परिवहन प्रक्रिया के दौरान सभी जोखिमों को वहन करेंगे।

संपर्क करें
वाइप्ड फिल्म डिस्टिलेशन उपकरण के लिए तकनीकी दस्तावेज़ और थोक मूल्य निर्धारण के लिए अनुरोध करें → info@welloneupe.com








